對尼康而言，幸好該廠平面顯示器用生產設備產品銷路仍佳，現在大陸正在大規模建造液晶面板工廠，接下來韓國、日本、與大陸又要投入OLED面板設廠，因此在2020年以前，尼康的半導體設備事業，可以靠面板廠需求，繼續維持。

　　半導體曝光裝置需要三種關鍵技術，他們決定著整個系統的性能。

　　第一，“投影透鏡的分辨率”。鏡頭的分辨能力越高，能通過光學系統傳輸的電路圖形就越復雜。為了提高鏡頭的性能，尼康嚴格管理從混合鏡頭原材料、分解、研磨、上涂層到組裝的整個生產過程。

　　第二，“對準精度”。制作一個半導體必須對光罩進行幾十次替換，并在曝光過程中對電路圖形進行反復刻錄。因此每次絲毫不差地對準晶片和光罩至關重要。為此尼康使用多個傳感器以對光罩和晶片進行精確定位。

　　第三，“產量”。大規模生產半導體時，這一技術十分重要。產量是產能的一個指標，即一小時內可曝光晶片的數量。為了在同一個晶片上實現最大數量的半導體曝光，尼康技術實現了晶片臺的高速移動，并準確停在位置，從而提高生產率。

　　通過將這三種技術結合，尼康半導體曝光裝置是迄今為止格外精密的設備。

　　而且，尼康的顯示器面板生產裝置，還有多透鏡系統，可透過同時控制多面透鏡的動作，制造大型高精密度面板，在面板不斷大型化的現在，算是熱門商品。自誕生以來，半導體的體積極速小型化，同時可搭載的功能也越來越多。隨著半導體的不斷進化，尼康亦持續開發具有更高分辨率的曝光技術以滿足其日趨小型化趨勢。但是當小型化發展到一定程度，如何使其更小型化，在技術上碰到了理論瓶頸。最終尼康在半導體曝光技術中采用了液浸式曝光技術，打破了僵局。