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徠卡顯微鏡光學創新

更新時間:2017-04-14      點擊次數:2170
   徠卡顯微鏡光學系統,zui大通光率、均勻性和*校正率是徠卡顯微鏡全新光學系統所具備的特點。雜散光和不希望存在的反射已經成為過去,Leica DMI300M超越了再造材料樣本領域現有的度和顏色保真度標準。
  徠卡顯微鏡光學創新,對于既要在樣本和物鏡之間留出巨大工作空間,同時又要獲得高分辨率圖像的顯微鏡觀察方法而言,使用徠卡顯微鏡創新的HC光學器件是理想的選擇。徠卡顯微鏡HC光學器件具有高數字化的光圈,并且可以在顯微鏡載物臺上留出大量的空間,同時實現高像差、銳化且細致的材料樣本圖像。對于圖像分析的所有相差觀察方法而言,用戶都能從高度的圖像銳化中收益。
  徠卡顯微鏡產品介紹:
  ·*修正光學設計
  ·反射光:明場、暗場、偏光、微分干涉、熒光
  ·透射光:明場、暗場、相差、偏光、微分干涉、斜光
  ·12V100W鹵素燈,內置濾片架及穩壓電源
  徠卡顯微鏡是一種精密的光學儀器,做好顯微鏡的日常維護和保養,是非常重要的運作。日常在使用徠卡顯微鏡時需要注意這樣一些問題:
  采取下列措施,能更好的延長您的顯微鏡使用時間并使之保持的運作狀態。
  (1)每次關閉顯微鏡電源前,請將顯微鏡燈光調至zui暗。
  (2)關閉顯微鏡電源后,請等燈箱*冷卻后(約15分鐘后),在罩上顯微鏡防塵罩。
  (3)開啟顯微鏡電源后,若暫時不使用,可以將顯微鏡燈光調至zui暗,而無需頻繁開關顯微鏡電源。
  徠卡顯微鏡運作一年后,易每年至少做一次的專業維護保養。

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